Neste vídeo, a IPG Photonics apresenta um conceito de aquecimento a laser que utiliza uma abordagem de zona de aquecimento flexível. Há processos que exigem uma entrada de energia não uniforme, muitas vezes devido a efeitos convectivos que são difíceis de tratar com sistemas de distribuição uniforme de calor. Felizmente, os lasers de infravermelho próximo (NIR) fornecidos por fibra da IPG Photonics podem ser configurados de forma flexível para oferecer uma ampla gama de possibilidades de distribuição de energia que melhor atendam aos requisitos específicos do processo.

Por exemplo, um processo epi incorpora fluxos de gás complexos em um wafer aquecido que gira rapidamente para atingir taxas de deposição uniformes. A melhor maneira de lidar com esse ambiente dinâmico é por meio de várias zonas de aquecimento gerenciadas individualmente na superfície do wafer, conforme mostrado no vídeo acima.

Para saber mais sobre o conceito de aquecimento de wafer a laser, você pode ver uma demonstração do processo aqui.

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