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激光:可持续的晶片加热解决方案

二极管激光器已成为晶圆加热的可持续高效解决方案,为芯片制造商提供了优化生产的机会。与红外灯加热器一样,激光加热器也是利用红外光,但激光加热器具有显著的优势,它能更快地达到目标温度,提供出色的均匀性,降低能耗,并且几乎不会浪费能源来加热周围的腔室或大气。

使用波长为 975 nm 的二极管激光器进行的实验表明,它能够在 9 秒内将 200 mm 的硅晶片加热到 800 摄氏度,同时在整个加热过程中保持稳定的温度。研究的经验模型表明,这项技术可以有效地扩展到更大的 300 毫米硅片,为二极管激光加热作为硅片加热解决方案提供了令人信服的理由。

要进一步了解二极管激光器如何成为晶片加热的理想解决方案,请单击此处阅读《硅半导体》杂志的完整文章。

激光加热硅晶片用激光将 200 毫米硅晶片加热到 800°C 的可见光图像。