In diesem Video demonstriert IPG Photonics ein Konzept zur Erwärmung von Wafern, das auf einer Nahinfrarot-Laserbeleuchtung von 200 mm Silizium-Wafern basiert. Unsere Ergebnisse deuten darauf hin, dass die Verwendung einer Laserlösung für die Wafererwärmung attraktive Energie- und Zykluszeiteinsparungen bietet.

Neben den Energieeinsparungen durch die Lasererwärmung wird durch die in der Demonstration verwendete Laserausrüstung eine zusätzliche Effizienz erzielt. Die IPG DLS-ECO Nah-IR-Diodenlaser bieten einen Wirkungsgrad von mindestens 55 % bei der Umwandlung von Strom in projiziertes Licht. Ein projizierter Laserstrahl kann so geformt werden, dass der Energieüberlauf außerhalb des Waferumfangs minimiert wird, so dass weniger Energie für die Erwärmung der Kammeratmosphäre und der Wände verschwendet wird.

Außerdem wird die Laserenergie über eine lange (bis zu 50 m) Faser übertragen, so dass die Wärmequelle außerhalb des Reinraums verbleiben kann. Da in der Nähe des Prozesses keine nennenswerte Wärme erzeugt wird, außer auf der Oberfläche des Wafers, belasten die Laserstrahler die Reinraumanlagen deutlich weniger.

Wenn Sie mehr über das Konzept der Mehrzonen-Spotheizung für Siliziumwafer erfahren möchten, können Sie sich hier eine animierte Darstellung des Prozesses ansehen.

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