레이저로 800°C로 가열한 200mm 실리콘 웨이퍼의 가시광선 이미지.
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레이저: 지속 가능한 웨이퍼 가열 솔루션
다이오드 레이저는 웨이퍼 가열을 위한 지속 가능하고 효율적인 솔루션으로 부상하여 칩 제조업체가 생산을 최적화할 수 있는 기회를 제공합니다. 적외선 램프 히터와 마찬가지로 레이저 히터도 적외선을 활용하지만, 레이저 히터는 목표 온도에 더 빨리 도달하고 균일성이 뛰어나며 에너지 소비를 줄이고 주변 챔버나 대기를 가열하는 데 에너지를 거의 낭비하지 않는다는 점에서 상당한 이점을 제공합니다.
975nm 파장 다이오드 레이저를 사용한 실험에서 가열 과정 내내 일정한 온도를 유지하면서 200mm 실리콘 웨이퍼를 9초 이내에 800°C까지 가열할 수 있다는 것이 입증되었습니다. 이 연구의 경험적 모델은 이 기술을 더 큰 300mm 웨이퍼로 효과적으로 확장할 수 있음을 시사하며, 웨이퍼 가열 솔루션으로서 다이오드 레이저 가열의 강력한 사례를 제시합니다.
다이오드 레이저가 웨이퍼 가열에 이상적인 솔루션인 이유에 대해 자세히 알아보려면 여기를 클릭하여 Silicon Semiconductor 매거진의 기사 전문을 읽어보세요.