UVナノ秒ファイバーレーザによるマーキングと微細加工
短パルスで集光スポットが小さく、パルスエネルギーと繰り返し周波数が高いため、さまざまな材料の高速精密加工が可能です。
IPG紫外および深紫外ナノ秒ファイバーレーザは、ポリマーの切断、マーキング、硬化、半導体の検査と修理、ウェハーのスクライビングとパターニング、アニーリング、レーザダイレクトイメージング、ステレオリソグラフィ、さらには木材のエイジングなどの用途に使用されています。
UVナノ秒ファイバーレーザモジュール | 高出力UV QCWファイバーレーザ | 深紫外ナノ秒ファイバー・レーザ |
ULPN-355-Mシリーズ | ULPN-355-QCWシリーズ | ULPN-266-Mシリーズ |
UVナノ秒ファイバーレーザモジュール | 高出力UV QCWファイバーレーザ | 深紫外ナノ秒ファイバー・レーザ |
ULPN-355-Mシリーズ | ULPN-355-QCWシリーズ | ULPN-266-Mシリーズ |
波長 | ||
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355 nm | 355 nm | 266 nm |
平均パワー | ||
最大10W | 100Wまで | 最大10W |
ビーム品質 | ||
M2 <1.4 | M2 <1.5 Typical | M2 <1.2 |
最大パルスエネルギー | ||
最大10 µJ (バーストモードでは最大30 µJ) | μJまで | 2μJまで |
パルス持続時間 | ||
~1.5ナノ秒 | ~1.5ナノ秒 | 1.3ns |
パルス反復速度 | ||
10~1000 kHz | 20~150 MHz | 100~2700 kHz |
冷却 | ||
空冷 | 水冷 | 空冷 |
さらに詳しく | さらに詳しく | さらに詳しく |
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波長 | 355 nm | 355 nm | 266 nm | |||||||||
平均パワー | 最大10W | 100Wまで | 最大10W | |||||||||
ビーム品質 | M2 <1.4 | M2 <1.5 Typical | M2 <1.2 | |||||||||
最大パルスエネルギー | 最大10 µJ (バーストモードでは最大30 µJ) | μJまで | 2μJまで | |||||||||
パルス持続時間 | ~1.5ナノ秒 | ~1.5ナノ秒 | 1.3ns | |||||||||
パルス反復速度 | 10~1000 kHz | 20~150 MHz | 100~2700 kHz | |||||||||
冷却 | 空冷 | 水冷 | 空冷 | |||||||||
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上記の仕様は標準品です。IPGはご要望に応じてカスタマイズされた仕様のレーザを提供することができます。
商品の在庫状況は地域によって異なる場合があります。
IPGは、高出力ファイバーレーザの発明者であり一流サプライヤーであるだけではありません。コンポーネントが必要であろうと、カスタムレーザシステムが必要であろうと、IPGは事実上あらゆる産業とアプリケーションに包括的なソリューションを提供します。
最初のアプリケーション開発から継続的なサービスおよびサポートまで、レーザ加工のあらゆる段階でIPGとチームを組んでください。